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特瑞堡密封系统提供独特且突出的材料，以应对化工製程、系统位置和工具复杂性：

lsolast? PureFab? JPF10:

• 全有机结构
• 高纯度
• 氟和氧离子基，完美的耐电浆
• 低颗粒产生
• +300 °C 以上的高溫穩定性
• 出色的耐化学性，包括在蒸汽和胺中
• 适用於以下製程：乾蚀刻、剥离和远程电浆清洗
  
  

lsolast? PureFab? JPF20:

• 先进的纳米颗粒填料系统，提供最少的颗粒产生
• 能承受侵蚀性离子和富含自由基的电浆化学物质
• 出色的高溫穩定性，高達 +320 °C
• 适用於需要承受极端电浆的环境、和所有蚀刻製程的关键部分
  
  

Isolast? PureFabTM JPF21:

• 专有填料系统提供出色的抗氧电浆性和尺寸稳定性
• 在 NF3 電漿中，擁有最少的顆粒產生
• 即使在超過 +300°C 的溫度下，也能長時間保持出色的密封力，從而延長密封壽命
• 适用於蚀刻、沉积和扩散製程
  
  

Isolast? PureFab? JPF30:

• 无添加、半透明的极纯材料
• 极低的金属含量
• 與競爭對手的半透明材料相比，即使在 +300 °C 下也具有無與倫比的耐熱穩定性
• 适用於灰分和带钢製程、以及需要低密封力的应用
  
  

Isolast? PureFab? 系列中的其他材料：

Isolast? PureFab? J9675:

• 全有机配方，具有出色的弹性
• 应用於高级节点光刻应用，具有超低释气性能
• 适用於除气性能至关重要的阻尼应用
  
  

Isolast? PureFab? J9685:

• 出色的耐热性
• 非常低的永久变形量
• 可在高達 325°C 的高溫熱處理中運行
• 适用於础尝顿、氧化/扩散等热处理製程
  
  

Isolast? PureFab? J9610:

• 卓越的耐化学性，适用於湿式製程应用
• 在具有侵蚀性湿式化学品中，具有极低的析出物
• 適用於 CMP、ECD 和濕蝕刻應用
  
  

产物:

• O-Rings
• 客製化设计的密封件、或橡胶-金属组合件、和橡胶-塑胶粘合件，例如晶圆承载件
• FlexiMold? 大尺寸、無接合點密封件
• Centering Rings (NW, KF, ISO)