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概要:

• イソラスト&苍产蝉辫;笔耻谤别贵补产&迟谤补诲别;材料の特徴や利点、および异なる材料の特性について
• これらの材料で半导体メーカーの効率化を高め、コストを削减する方法
• 最も过酷な要求が求められる半导体プロセスにおけるイソラスト笔耻谤别贵补产&迟谤补诲别;材料の高いシール性能と长寿命化について
• プロセスガスでのプラズマ浸食试験、长期间の机械试験、微量金属（不纯物）分析やアウトガスを含む纯度试験など、これらの材料の试験プロセスについて

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